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[大理石平臺]大理石平臺處理工序中拋光和打蠟有什么區(qū)別?

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一。本質(zhì)區(qū)別: 1)大理石磨塊拋光是石材晶面加工的前奏,也是石材加工中必不可少的工藝過程。其主要原理是利用無機(jī)酸、金屬氧化物等材料壓制碾壓塊與機(jī)械研磨盤的壓力、高速...

文章標(biāo)簽:大理石平臺  

   

大理石平臺處理工序中拋光和打蠟有什么區(qū)別?

 

一。本質(zhì)區(qū)別:

大理石平臺
    1)大理石磨塊拋光是石材晶面加工的前奏,也是石材加工中必不可少的工藝過程。其主要原理是利用無機(jī)酸、金屬氧化物等材料壓制碾壓塊與機(jī)械研磨盤的壓力、高速磨削力、摩擦熱、水的作用在相對平滑的大理石表面進(jìn)行物理、化學(xué)結(jié)合,從而形成新的亮晶層。這個水晶層有一個超亮,清晰的亮度高達(dá)90-100度。晶體層為石材表層(1-2mm厚)的改性復(fù)合晶體層。
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    2)大理石清洗是大理石蠟拋光、大理石清洗和打蠟拋光的前奏,屬于早期80—90流行的大理石清洗維護(hù)保養(yǎng)措施,現(xiàn)在已經(jīng)失去了市場和存在的意義。它本質(zhì)上是一層薄薄的丙烯酸樹脂和乳液聚合物涂層,覆蓋在新鋪的石頭(拋光板)表面,這種石頭被稱為水蠟或地板蠟。經(jīng)過高速、低壓拋光機(jī)與纖維墊在石材表面摩擦,使樹脂涂層具有光亮的工藝性。由于產(chǎn)品新,后來又出現(xiàn)了特殊的光滑蠟,避免掉蠟等,這種涂料類似于木地板上的油的清漆。
 
    3)大理石護(hù)理晶面加工前的磨塊拋光過程是石材表層與化學(xué)物質(zhì)的物理化學(xué)相互作用過程。石材表層與底層完全融合成一個整體,沒有脫離層。
 
    4)大理石表面蠟層拋光和拋光附著在石材表面上。一層樹脂膜和石頭之間沒有化學(xué)反應(yīng)。這個蠟?zāi)涌梢杂玫镀p輕一鏟,蠟?zāi)た梢詮氖谋砻媲邢隆?/div>
 
    “大理石平臺”大理石平臺拋光與大理石平臺打蠟有什么區(qū)別?
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    2。外觀差異:

 
    1)大理石打磨塊的拋光是石材水晶面處理的前奏,是石材管理和養(yǎng)護(hù)的基礎(chǔ)。石材經(jīng)拋光后,具有高亮度、高清晰度、耐磨性、抗踏面、不易劃傷等特點(diǎn)。它是石材使用功能及其價(jià)值延伸的真實(shí)體現(xiàn)。
 
    2)蠟拋光后亮度低,光度不清,且非常模糊,不耐磨,不耐水,易刮傷,氧化黃色石材必不可少的圖像還原。

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